4.06PVE：重回RAID舞台的奥法输出指南
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写在前面的话 国外著名魔兽论坛EJ最近出了一个奥法专题。 作者整理的之前的一个奥法专题讨论帖里很多重要回帖，里面很多内容很不错。但是我觉得其中部分内容对于不看EJ的大部分国内玩家而言没啥意义，而有些部分我认为还需要补充。所以我就擅自做了一些修改。这里感谢原作者Seonid和它的朋友们。
奥法的特点（相比较与火法）： 几乎和WLK完全相反，CTM的奥法更像是一个刷DPS的天赋（擅长木桩和单体输出），而火法则更像是一个团队向天赋（偏好AOE和移动战）。配合BOSS技能的阶段性爆发时机依然是奥法的最爱，而相对于平稳的WLK，CTM的火法在爆发时期拥有一个燃火可用，虽然比较看脸（熔吼露脑一次连爆都没有的泪目） AOE能力现在是奥法最大的短板，羸弱的近身AOE，几乎完全无法进行远距离AOE使得某些BOSS奥法几乎完全无法使用。（尤其是10人团法师必须承担AOE责任的时候） 天赋及雕文 天赋部分： 奥系：
冰系和火系：
参考天赋：  这是一个偏向机动性和降低伤害的参考天赋。奥法的天赋相当富裕，你有很多可选的天赋可以根据实际的情况来做相应的调整。 雕文 主雕文： 魔甲術雕紋、秘法飛彈雕紋、秘法衝擊雕紋 大雕文： 秘法強化雕紋（很方便配合爆发时期开镜像）；減速術雕紋；喚醒雕紋（非常实惠好用） 小雕文： 幻鏡之像雕紋（略微增加点镜像DPS）；秘法光輝雕紋（当战斗中减员需要补充BUFF的时候省点蓝）；还有一个随意。 大雕文和小雕文主要看具体的场合和个人的爱好。这里的仅供参考。
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